應(yīng)用專欄?
磁場(chǎng)屏蔽技術(shù)推進(jìn)半導(dǎo)體微型元件研發(fā)制程
磁場(chǎng)屏蔽技術(shù)對(duì)于半導(dǎo)體制程頗具重要性。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)不斷投入微型元件的研發(fā)，其工廠通常采用吊頂式單軌系統(tǒng)，以在站點(diǎn)之間運(yùn)輸組件以進(jìn)行自動(dòng)裝載和加工，這些高架系統(tǒng)通常會(huì)產(chǎn)生9 kHz的磁場(chǎng)，這對(duì)成像品質(zhì)產(chǎn)生極大負(fù)面影響，必須將其消除以提高解析度，恢復(fù)電子顯微鏡原有的效能。
主動(dòng)式雙消磁系統(tǒng)：解決鐵電材料研究中的磁場(chǎng)干擾問題
在Spectra 300 TEM上安裝了2X SC24主動(dòng)雙消磁系統(tǒng)后，外部干擾已經(jīng)明顯改善。透過四顆磁場(chǎng)探頭所取得的資料，可見在高度3公尺至0.5公尺范圍內(nèi)不論是X、Y、 Z方向其數(shù)值皆低于20nT。故Spectra 300 TEM可不受磁場(chǎng)干擾影響，而能以最高倍率運(yùn)作、取得高品質(zhì)影像。
電子顯微鏡的安裝規(guī)劃 – 如何減少或消除干擾
為了不斷提高電子顯微鏡解析度和成像品質(zhì)，制造商的環(huán)境規(guī)范變得越來越嚴(yán)格，配備光譜儀的高階顯微鏡只能承受高達(dá)10 或20 奈米特斯拉的干擾；在無法遷移其他設(shè)備并重新安置所有設(shè)施的情況下，可以采取不同措施來應(yīng)對(duì)震動(dòng)和磁場(chǎng)的嚴(yán)重性并抵消其影響。
電鏡環(huán)境量測(cè)系統(tǒng)如何選擇？場(chǎng)地分析SC11、長期監(jiān)測(cè)SC28
在許多情況下，我們必須對(duì)環(huán)境做量測(cè)或監(jiān)控，以確保環(huán)境在符合標(biāo)準(zhǔn)的磁場(chǎng)、震動(dòng)、聲波等范圍內(nèi)。例如：在安裝電子顯微鏡、電子束微影系統(tǒng)、CD-SEM 和聚焦離子束顯微鏡等儀器之前的環(huán)境評(píng)估、找出實(shí)驗(yàn)室設(shè)備運(yùn)作問題的原因、長期維持敏感設(shè)備穩(wěn)定度等等。
電子顯微鏡環(huán)境干擾因素的探討與解決方案
SEM、TEM電子顯微鏡是現(xiàn)今微米、奈米科技研發(fā)與檢驗(yàn)的重要工具，用來觀測(cè)微結(jié)構(gòu)的表面形貌和物質(zhì)的元素組成，然而環(huán)境周圍的電磁干擾、震動(dòng)、噪音也會(huì)對(duì)電子顯微鏡的性能造成影響，如何有效量測(cè)并分析環(huán)境具有哪些干擾因子并將干擾程度數(shù)據(jù)化，以幫助研究員選擇對(duì)應(yīng)的解決方案，成為了現(xiàn)代科學(xué)中一門重要的課題…
鍵.jpg "應(yīng)用專欄插圖5")
如何提高電子束微影的良率：掌握消磁器選擇的關(guān)鍵
2023年半導(dǎo)體雖然面臨后疫情時(shí)代的市場(chǎng)挑戰(zhàn)，先進(jìn)制程微縮仍是半導(dǎo)體制造業(yè)的發(fā)展趨勢(shì)，其中電子束微影（Electron Beam Lithography，簡稱EBL）更是具潛力發(fā)展的技術(shù)之一，其應(yīng)用范圍包含：微小電子元件、生物芯片、光學(xué)元件、量子器件、奈米結(jié)構(gòu)材料、微型機(jī)械結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域。因此，如何在復(fù)雜技術(shù)中提高良率以降低成本，解決電磁干擾等環(huán)境問題至關(guān)重要。