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【精選產(chǎn)品】主動(dòng)消磁系統(tǒng)、環(huán)境檢測(cè)分析儀等

環(huán)境檢測(cè)分析儀 SC11

智能環(huán)境監(jiān)測(cè)系統(tǒng) SC28

主動(dòng)式消磁器 series

電鏡防噪音箱 Herzan

主動(dòng)式減震臺(tái) AVI Series

雙傾冷凍真空傳輸樣品桿

【應(yīng)用專(zhuān)欄】解決電鏡環(huán)境干擾、樣品桿應(yīng)用等產(chǎn)業(yè)案例

高解析度透射電子顯微鏡的直流和交流磁場(chǎng)緩解挑戰(zhàn)及解決方案

由于透射電子顯微鏡 (TEM) 具有嚴(yán)格的磁場(chǎng)要求，其電子束柱的長(zhǎng)度使得磁場(chǎng)緩解與主動(dòng)磁場(chǎng)消除成為一個(gè)重大的挑戰(zhàn)。然房間屏蔽是一種選擇，但其成本高昂，且可能會(huì)顯著延誤專(zhuān)案進(jìn)度。此外，傳統(tǒng)的 1/4 英吋鋁屏蔽僅能有效抵御交流磁場(chǎng)，對(duì)直流磁場(chǎng)則無(wú)法發(fā)揮作用。

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2025-04-07

Herz 設(shè)備隔振臺(tái)?AVI Series，設(shè)備隔振領(lǐng)域的佼佼者

在科研、工業(yè)、生產(chǎn)和工程領(lǐng)域，精密儀器設(shè)備對(duì)環(huán)境的穩(wěn)定性有著極高的要求。任何微小的振動(dòng)都可能對(duì)設(shè)備的性能造成顯著影響，尤其是在電子顯微鏡、原子力顯微鏡等高精度設(shè)備的應(yīng)用中，振動(dòng)的干擾更是不可忽視。為了解決這一問(wèn)題，Herz 公司推出了設(shè)備隔振臺(tái) AVI Series，為各類(lèi)精密儀器設(shè)備提供了卓越的隔振解決方案。

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2025-03-27

SC11磁場(chǎng)分析儀，實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的精準(zhǔn)測(cè)量利器

在科學(xué)研究、工業(yè)制造以及環(huán)境監(jiān)測(cè)等眾多領(lǐng)域，磁場(chǎng)、震動(dòng)和噪音等影響因素的測(cè)量與分析是不可或缺的一環(huán)。為了滿(mǎn)足這一需求，英國(guó)Spicer Consulting公司推出了SC11磁場(chǎng)分析儀，這是一款專(zhuān)為實(shí)驗(yàn)室環(huán)境設(shè)計(jì)的精密測(cè)量?jī)x器，以其高度的準(zhǔn)確性、靈活性和易用性，贏(yíng)得了廣泛的市場(chǎng)認(rèn)可。

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2025-03-19

Herzan電鏡隔音箱打造科研實(shí)驗(yàn)室的靜音空間

在科研和工業(yè)領(lǐng)域，對(duì)于實(shí)驗(yàn)室內(nèi)排除各種因素的干擾一直是重中之重，數(shù)據(jù)的精度和穩(wěn)定性至關(guān)重要。然而，相當(dāng)多精密儀器設(shè)備極其容易受到外界噪聲的干擾，從而影響最后的數(shù)據(jù)和成果。

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2025-01-09

電子顯微鏡震動(dòng)干擾：當(dāng)今實(shí)驗(yàn)室日益重視的問(wèn)題

環(huán)境振動(dòng)對(duì)電子顯微鏡的影響已成為現(xiàn)代實(shí)驗(yàn)室日益關(guān)注的問(wèn)題。隨著高科技的發(fā)展，電子顯微鏡的倍率提高、成像時(shí)間延長(zhǎng)以及3D重建技術(shù)的應(yīng)用，影像品質(zhì)更容易受到微小震動(dòng)的干擾。透過(guò)監(jiān)測(cè)與詳細(xì)的場(chǎng)地調(diào)查，甚至在必要時(shí)采用主動(dòng)式減震臺(tái)，都是有效的減震措施。

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2025-01-09

電鏡環(huán)境量測(cè)系統(tǒng)如何選擇？場(chǎng)地分析SC11、長(zhǎng)期監(jiān)測(cè)SC28

在許多情況下，我們必須對(duì)環(huán)境做量測(cè)或監(jiān)控，以確保環(huán)境在符合標(biāo)準(zhǔn)的磁場(chǎng)、震動(dòng)、聲波等范圍內(nèi)。例如：在安裝電子顯微鏡、電子束微影系統(tǒng)、CD-SEM 和聚焦離子束顯微鏡等儀器之前的環(huán)境評(píng)估、找出實(shí)驗(yàn)室設(shè)備運(yùn)作問(wèn)題的原因、長(zhǎng)期維持敏感設(shè)備穩(wěn)定度等等。

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2023-10-31

如何提高電子束微影的良率：掌握消磁器選擇的關(guān)鍵

2023年半導(dǎo)體雖然面臨后疫情時(shí)代的市場(chǎng)挑戰(zhàn)，先進(jìn)制程微縮仍是半導(dǎo)體制造業(yè)的發(fā)展趨勢(shì)，其中電子束微影（Electron Beam Lithography，簡(jiǎn)稱(chēng)EBL）更是具潛力發(fā)展的技術(shù)之一，其應(yīng)用范圍包含：微小電子元件、生物芯片、光學(xué)元件、量子器件、奈米結(jié)構(gòu)材料、微型機(jī)械結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域。因此，如何在復(fù)雜技術(shù)中提高良率以降低成本，解決電磁干擾等環(huán)境問(wèn)題至關(guān)重要。

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2023-04-07