勀杰科技 整理

2023年半導(dǎo)體雖然面臨后疫情時(shí)代的市場(chǎng)挑戰(zhàn)，先進(jìn)制程微縮仍是半導(dǎo)體制造業(yè)的發(fā)展趨勢(shì)，其中電子束微影（Electron Beam Lithography，簡(jiǎn)稱(chēng)EBL）更是具潛力發(fā)展的技術(shù)之一，其應(yīng)用范圍包含：微小電子元件、生物芯片、光學(xué)元件、量子器件、奈米結(jié)構(gòu)材料、微型機(jī)械結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域。因此，如何在復(fù)雜技術(shù)中提高良率以降低成本，解決電磁干擾等環(huán)境問(wèn)題至關(guān)重要。

何謂電子束微影與電磁干擾問(wèn)題

電子束微影(EBL)是一種高解析度的微影技術(shù)，透過(guò)控制電子束的方向和劑量，在選定的感光材料表面形成高精度的圖案，并經(jīng)過(guò)蝕刻等處理步驟，最終制造出奈米等級(jí)的晶片結(jié)構(gòu)。一般EBL很難大量生產(chǎn)，除了高超技術(shù)門(mén)檻、電子束曝光系統(tǒng)等昂貴設(shè)備條件需齊全外，其制程時(shí)間較長(zhǎng)且易受眾多環(huán)境因子干擾而大幅影響良率、造成整體成本上升是重要原因之一。而最常見(jiàn)的環(huán)境干擾便是電磁干擾(Electromagnetic Interference，簡(jiǎn)稱(chēng)EMI)。

在電子束微影制程中，電磁干擾來(lái)自各種不同的源頭，例如設(shè)備、電路管線、電梯等，這些電磁干擾會(huì)影響電子束偏離或造成雜訊干擾，進(jìn)而使得電子束微影的圖案失真、偏移。

選擇消磁器的五大關(guān)鍵

為了確保電子束微影成品的品質(zhì)，要怎么選擇消磁器來(lái)消除電磁干擾就需考量以下重點(diǎn)：

●根據(jù)應(yīng)用場(chǎng)景選擇尺寸，需能消除電子束周?chē)鶨MI又不造成制程干擾。
●選用消磁效率高的消磁器，盡可能消除EBL制程中存在的各種磁場(chǎng)干擾。
●符合電子束微影制程的頻率范圍。
●符合電子束微影制程的磁場(chǎng)方向。
●安裝操作的便利性。

而除了電磁干擾，溫度、濕度、震度、噪音等也都會(huì)干擾電子束微影(EBL)制程，若未掌握好參數(shù)，再加上EBL制程時(shí)間較長(zhǎng)，當(dāng)發(fā)生微影失敗時(shí)，還需判斷是設(shè)備出問(wèn)題或環(huán)境因素導(dǎo)致。因此，環(huán)境監(jiān)控與測(cè)量也顯得格外重要。

主動(dòng)式消磁器「雙機(jī)」強(qiáng)化版 給微影制程的雙重保障

英國(guó)知名品牌 SPICER CONSULTING專(zhuān)注于為客戶(hù)提供全面性的環(huán)境磁場(chǎng)檢測(cè)與改善辦法，更針對(duì)不同領(lǐng)域應(yīng)用研發(fā)一系列主動(dòng)式消磁器型號(hào)。相較于一般消磁方式，主動(dòng)式消磁器可以即時(shí)監(jiān)測(cè)并自動(dòng)產(chǎn)生反向磁場(chǎng)來(lái)抵銷(xiāo)，在消磁效率和穩(wěn)定度上都更佳。

全新一代推出的SC24 Plus Intelligent System雙機(jī)強(qiáng)化版，除擁有最先進(jìn)的主動(dòng)式消磁技術(shù)外，再升級(jí)為全方位環(huán)境智能監(jiān)控系統(tǒng)。 SC24 Plus雙機(jī)強(qiáng)化版可根據(jù)不同房間尺寸或需求，提供客制化的線圈安裝方式。搭配24H智能監(jiān)控機(jī)持續(xù)偵測(cè)磁場(chǎng)變化，只要環(huán)境磁場(chǎng)超出設(shè)定的允許范圍，便會(huì)立即發(fā)出警報(bào)。讓電子束微影(EBL)制程擁有「自動(dòng)抵銷(xiāo)磁場(chǎng)干擾」、「即時(shí)監(jiān)控磁場(chǎng)數(shù)據(jù)」的雙重防護(hù)保障。

監(jiān)控多種環(huán)境干擾源 降低微影制程廢品率

不僅磁場(chǎng)干擾，SC24 Plus雙機(jī)強(qiáng)化版還增加溫度、濕度、噪音、震動(dòng)共達(dá)5種干擾源偵測(cè)選擇，擅于長(zhǎng)期且不間斷地監(jiān)測(cè)電子束儀器的室內(nèi)環(huán)境，包括掃描式電子顯微鏡(SEM)、穿透射式電子顯微鏡(TEM)、聚焦離子束顯微鏡（FIB）、微距量測(cè)掃描式電子顯微鏡(CD-SEM)、電子束光刻(曝光機(jī))工具等，并可自定義每個(gè)環(huán)境參數(shù)會(huì)引發(fā)警報(bào)的規(guī)則范圍。此外，SC24 Plus雙機(jī)強(qiáng)化版能提供多種環(huán)境數(shù)據(jù)分析報(bào)告，最多可同時(shí)查看14個(gè)不同的圖表，讓EBL制程更全面掌控環(huán)境參數(shù)。

過(guò)環(huán)境監(jiān)控隨時(shí)掌握問(wèn)題，并選擇合適的消磁器來(lái)減少電磁干擾，將有助于電子束微影制程降低廢品率，同時(shí)減少設(shè)備因電磁干擾帶來(lái)的傷害。

若您有主動(dòng)式消磁器、環(huán)境監(jiān)測(cè)儀器等相關(guān)需求想要討論，或想要更進(jìn)一步了解更多相關(guān)知識(shí)！

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注：本篇電子束微影原理示意圖繪制參考自：https://reurl.cc/GeAZeW